JCP500B磁控溅射镀膜机主要用于表层传感薄膜及传感器的研制开发，制备金属薄膜、氧化物薄膜、陶瓷薄膜和磁性薄膜等制备，可以研发如位移传感器、薄膜应变计、薄膜热流计/热电偶、薄压电薄膜传感器等精密传感设备。具备脉冲偏压电源，可提高镀膜过程中膜层结合力，实现大面积薄膜制备。成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，且不受膜材熔点的限制。具备脉冲偏压电源，可实现镀膜前样品反溅清洗；　中心位置安装Ф120mm平台，可用于倾斜或共焦溅射；6工位行星工件架，可公转及定位自转，特别是可实现棒状工件镀膜。